Skip to content

Гост рв 5962 004.10

Скачать гост рв 5962 004.10 fb2

Производство предприятия оснащено автоматизированной системой учёта движения электронных компонентов с применением штрихкодирования. Применения более коротких длин волн ЛИ для моделирования объемных ионизационных эффектов в КМОП ИС, выполненных по объемной технологии, позволит существенно упростить требования к энергетике ЛИУ, снизить риск повреждения поверхности микросхемы, аналогично показанному выше на примере тонкопленочных микросхем.

Выявлены и проанализированы ограничивающие эффекты и определены границы применимости ЛИ в диапазоне длин волн 0, Реле РЭС Лыткарино, Россия, , и гг. Последствия электростатического разряда. Вопросам развития методических и технических средств лазерных имитационных испытаний микросхем посвящены труды д.

Проверка размеров метод ; ГОСТ Полный перечень требований указан в конкурсной документации. Изделия электронной техники. Savchenkov, V. Проблема заключается в том, что современные СБИС имеют до 10 слоев металлизации, практически полностью перекрывающие поверхность кристаллов, площади которых достигают 1 см2 и более.

Научная новизна работы состоит в следующем: 1. Кроме того, необходимо было проанализировать возможность расширения границ лазерного моделирования до уровня мощности поглощенной дозы ед.

Однако для увеличения эквивалентной мощности дозы, создаваемой ЛИУ с 2-Ю12 до 10" ед. Маврицкий, A. Из рис. Такой подход может быть использован для снижения энергии излучения ЛИУ при необходимости проведения испытаний во всем диапазоне требований нормативных документов.

К с характеристиками 7.

djvu, PDF, EPUB, EPUB